Lösemittelbeständige, einkomponentige Fotopolymer-Kopierschicht
POLYCOL UNO wird zur Herstellung qualitativ hochwertiger, lösemittelbeständiger Siebdruckschablonen verwendet. Aufgrund der leichten Verarbeitung und guten Entschichtbarkeit ist es ideal für Industriebetriebe mit hohem Schablonenanfall und/oder großformatigen Schablonen. POLYCOL UNO ist für nahezu alle graphischen Siebdruckaufgaben geeignet.
